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影響電泳涂裝的參數(shù)

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影響電泳涂裝的參數(shù)

發(fā)布時(shí)間:2019-05-13    點(diǎn)擊次數(shù):次   

  、電壓電泳涂裝采用的是定電壓法,設(shè)備相對(duì)簡(jiǎn)單,易于控制。陰極電泳根據(jù)被涂物的極性和電泳涂料的種類,電泳涂裝法可分為兩種,陰極電泳涂裝法被涂物為陰極,所采用的電泳涂料是陽(yáng)離子型(帶正電荷)。電泳廠家又名—— 電著(著),泳漆,電沉積。創(chuàng)始于二十世紀(jì)六十年代,由福特汽車公司較先應(yīng)用于汽車底漆。陰極電泳它是將具有導(dǎo)電性的被涂物浸漬在裝滿水稀釋的、濃度比較低的電泳涂料槽中作為陽(yáng)極(或陰極)、在槽中另設(shè)置與其相對(duì)應(yīng)的陰極(或陽(yáng)極),在兩極間通直流電,在被涂物上析出均一、水不溶的涂膜的一種涂裝方法。電壓對(duì)漆膜的影響(influence)很大;電壓越高,電泳漆膜越厚,對(duì)于難以涂裝的部位可相應(yīng)提高涂裝能力,縮短施工時(shí)間。但電壓過(guò)高,會(huì)引起漆膜表面粗糙(cū cāo),烘干后易產(chǎn)生 ;橘皮 ;現(xiàn)象。電壓過(guò)低,電解反應(yīng)慢,漆膜薄而均勻(jūn yún),泳透力差。電壓的選擇由涂料種類和施工要求等確定。一般情況下,電壓與涂料的固體分及漆溫成反比,與兩極間距成正比。鋼鐵表面為40~70V,鋁和鋁合金表面可采用60~00V,鍍鋅(galvanization)(Zinc)件采用70~85V。 2、電泳時(shí)間漆膜厚度隨著電泳時(shí)間的延長(zhǎng)而增加,但當(dāng)漆膜達(dá)到一定厚度時(shí),繼續(xù)延長(zhǎng)時(shí)間,也不能增加厚度,反而會(huì)加劇副反應(yīng);反之,電泳時(shí)間過(guò)短,涂層過(guò)薄。電泳時(shí)間應(yīng)根據(jù)所用的電壓,在保證涂層質(zhì)量的條件下,越短越好。一般工件電泳時(shí)間為至3分鐘,大型工件為3至4分鐘。如果被涂物件表面幾何形狀復(fù)雜,可適當(dāng)提高電壓和延長(zhǎng)時(shí)間。 3、涂料溫度(temperature)涂料溫度高,成膜速率快,但漆膜外觀粗糙,還會(huì)引起涂料變質(zhì);溫度低,電沉積(sedimentation)量少,成膜慢,涂膜薄而致密。施工過(guò)程(guò chéng)中,由于電沉積時(shí)部分電能轉(zhuǎn)化成熱能,循環(huán)系統(tǒng)內(nèi)機(jī)械摩擦產(chǎn)生熱量(Heat),將導(dǎo)致(cause)涂料溫度上升。一般漆液溫度控制在某些方面5~30℃。 4、涂料的固體分和顏基比市售的電泳涂料的固體分一般為50%左右,施工時(shí),需用蒸餾水(distilled water)將涂料固體分控制在0%~5%。固體含量太低,漆膜的遮蓋力不好,顏料易沉淀(precipitation),涂料的穩(wěn)定性(The stability of)差。固體分過(guò)高,粘度提高,會(huì)造成漆膜粗糙疏松,附著力(adhesion)差。一般顏基比為比2左右,高光澤電泳涂料的顏基比可控制在比4。由于實(shí)際操作控制中,涂料的顏料量會(huì)逐漸下降(descend),必須隨時(shí)添加顏料分高的涂料來(lái)調(diào)節(jié)。
5、涂料的PH值電泳涂料的PH值直接影響槽液的穩(wěn)定性。PH值過(guò)高,新沉積的涂膜會(huì)再溶解,漆膜變薄,電泳后沖洗會(huì)脫膜。PH值過(guò)低,工件表面光澤不一致,漆液的穩(wěn)定性不好,已溶解的樹(shù)脂會(huì)析出,漆膜表面粗糙,附著力降低。一般要求施工過(guò)程中,PH值控制在7.5~8.5之間。在施工工程中,由于連續(xù)(Continuity)進(jìn)行電泳,陽(yáng)離子的銨化合物在涂料中積蓄,導(dǎo)致PH值的上升??刹捎醚a(bǔ)加低PH值的原液,更換陰極(cathode )罩蒸餾水,用離子交換樹(shù)脂除去銨離子,采用陽(yáng)極罩等方法降低PH值。若PH值過(guò)低時(shí),可加入乙醇(chún)銨來(lái)調(diào)節(jié)。
6、涂料電阻(resistance)被涂物件從前一道工序帶入電泳槽的雜質(zhì)離子等引起涂料電阻值的下降,從而導(dǎo)致漆膜出現(xiàn)粗糙不均和針孔等弊病。在涂裝施工中,需對(duì)涂料進(jìn)行凈化處理。為了得到高質(zhì)量涂膜,可采用陰極罩設(shè)備,以除去銨及鈣、鎂等雜質(zhì)正離子。
  
  
  
  
  
  
  

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